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| - 65 nanòmetres (65 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 65 nm. És una millora de la tecnologia de 90 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de . Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 100 àtoms de largada. (ca)
- 65 nanómetros (65nm) es la tecnología de fabricación de semiconductores, en la que los componentes están fabricados en 65 milmillonésimas partes de un metro. (es)
- 65 nm désigne le procédé de fabrication des semi-conducteurs qui succède au procédé 90 nm de fabrication par CMOS. Les premiers processeurs possédant cette technologie sont apparus sur le marché en 2006. Les processeurs Xenon de la génération "Falcon" sont gravés en technologie 65 nm, ainsi que les POWER6 et les Itanium 4 cores sortis en 2008. C'est également avec cette finesse qu'étaient gravés les CPU et GPU de certains modèles de PlayStation 3. Selon la feuille de route de l'ITRS, le successeur du 65 nm est la technologie 45 nm. (fr)
- 65 nm(나노미터) 공정은 회로선 폭이 65 nm인 반도체를 다루는 CMOS 공정 기술 수준이다. 2007년 9월 경 인텔, AMD, IBM, 유나이티드 마이크로일렉트로닉스, , TSMC와 같은 반도체 기업들이 달성하였다. (ko)
- 65 nanômetros (nm 65) é um processo avançado de litografia em nó, que é usado em volume na fabricação de semicondutores CMOS. O valor do comprimento de um transistor(isso é entre transistor - gate) pode chegar a um valor tão baixo quanto 25 nm em um processo de 65 nm, nominalmente, enquanto o passo entre duas linhas pode ser maior que 130 nm.[2] Para comparação, os ribossomos celulares possuem cerca de 20 nm ponta-a-ponta. Um cristal de silício a granel tem uma estrutura constante de 0,543 nm. Em setembro de 2007 Intel, AMD, IBM, UMC, Chartered e TSMC começaram a produção de chips de 65 nm. (pt)
- 65纳米制程是半导体制程的一个技術水平。至2007年,英特尔、AMD、IBM、聯華電子、和台积电等公司已有能力进行65纳米制程的量產。 当制程进入65纳米之时,用于进行光刻的光的波长是193纳米和248纳米。具有低于光波波长的制造厂要求使用一些特殊技术,比如光学邻近校正和相位移掩膜板技术。此外,12英寸晶圓在此制程開始成为主流。 (zh)
- The 65 nm process is an advanced lithographic node used in volume CMOS (MOSFET) semiconductor fabrication. Printed linewidths (i.e. transistor gate lengths) can reach as low as 25 nm on a nominally 65 nm process, while the pitch between two lines may be greater than 130 nm. For comparison, cellular ribosomes are about 20 nm end-to-end. A crystal of bulk silicon has a lattice constant of 0.543 nm, so such transistors are on the order of 100 atoms across. Toshiba and Sony announced the 65 nm process in 2002, before Fujitsu and Toshiba began production in 2004, and then TSMC began production in 2005. By September 2007, Intel, AMD, IBM, UMC and Chartered were also producing 65 nm chips. (en)
- Il processo costruttivo a 65 nm (65 nanometri) è l'evoluzione del processo a 90 nm utilizzato per i microprocessori Intel e AMD ed utilizzato attualmente da entrambi i produttori per le proprie linee di CPU. Il termine "65 nm" indica il nodo tecnologico del processo produttivo (definito come la metà della distanza fra celle vicine in un chip contenente memoria DRAM) e non la lunghezza di gate dei transistor (che nei dispositivi prodotti da Intel in questa tecnologia è pari a 35nm). Per avere un'idea di cosa voglia dire 65 nm basti considerare che il virus dell'HIV è grande circa 120 nm, un globulo rosso umano circa 6000-8000 nm e un capello quasi 80000 nm. (it)
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