Spin coating is a procedure used to deposit uniform thin films onto flat substrates. Usually a small amount of coating material is applied on the center of the substrate, which is either spinning at low speed or not spinning at all. The substrate is then rotated at speed up to 10,000 rpm to spread the coating material by centrifugal force. A machine used for spin coating is called a spin coater, or simply spinner.
| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| rdfs:label
| - Rotationsbeschichtung (de)
- Enduction centrifuge (fr)
- Rivestimento per rotazione (it)
- スピンコート (ja)
- Spincoating (nl)
- Spin-coater (pl)
- Spin coating (en)
- 旋转涂覆 (zh)
|
| rdfs:comment
| - Die Rotationsbeschichtung (engl. spin coating, auch spin-on) ist in der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik ein Verfahren zum Auftragen dünner und gleichmäßiger Schichten bzw. Filme auf einem Substrat. Zum Aufschleudern eignen sich alle in Lösung vorliegenden Materialien, wie z. B. der bei der Fotolithografie verwendete Fotolack (engl.: resist). (de)
- L'enduction centrifuge ou enduction par centrifugation ou dépôt à la tournette (plus connue sous son nom anglais de spin coating) est une technique de formation d'une couche mince et uniforme, par dépôt d’une solution de la substance du film, sur la surface plane d'un substrat qui tourne à vitesse élevée. L'enduction centrifuge est utilisée principalement en microélectronique. La machine utilisée pour cette opération est appelée spin coater ou spinner en anglais. (fr)
- スピンコートとは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄膜を構成する装置である。日本でも伝統的な陶磁器の製造工程で回転するろくろ上で釉薬を塗布する方法が伝えられている。 装置の名称はスピンコーター、或いは単純にスピナーとも呼ばれる。 回転速度が速いほど、生成される薄膜は薄くなる。中心と周辺で膜厚を均質にする必要がある。 スピンコートは半導体製造工程に於いて広範囲に使用されている。また、DVD、Blu-ray Discなど一部のディスク媒体においても、記録面に有機色素の記録層や保護膜生成のために使われることが多い。高品質の薄膜を能率よく生成する手段としてこれに勝る手段は無い。厚さ10ナノメートル以下も可能である。フォトリソグラフィー工程で使用されるフォトレジストの厚みは約1μmである。 (ja)
- Een spincoating is een oppervlaktebehandelingsproces om een dunne egale deklaag (coating of thin film) op een substraat (ondergrond) aan te brengen. (nl)
- Il rivestimento per rotazione (in inglese Spin Coating), è una procedura utilizzata per applicare un film sottile e uniforme ad un substrato solido piano. In breve, una quantità in eccesso di una soluzione molto diluita della specie che si vuole depositare (ad esempio, un polimero) viene depositata sul substrato, che è successivamente messo in rapida rotazione tramite un apposito rivestitore rotante (brevemente rotore), al fine di spargere il fluido sul substrato per effetto della forza centrifuga. I solventi utilizzati sono di solito molto volatili (clorobenzene, ecc.), dunque il film si assottiglia durante il processo anche per effetto dell'evaporazione del solvente. La rotazione viene fermata non appena si raggiunge lo spessore desiderato, che può andare al di sotto dei 10 nm. (it)
- Spin coater, także spin-coater lub powlekacz obrotowy – jest to urządzenie służące do powlekania płaskich powierzchni cienką, równomierną warstwą lakieru, farby, emulsji światłoczułych, substancji fotorezystywnych, itp. Znajduje zastosowanie w elektronice, mikromechanice i mechatronice w pierwszym etapie fotolitografii, jakim jest naniesienie warstwy substancji światłoczułej (fotorezystywnej) na powierzchnię, która ma być później poddana trawieniu (w elektronice może to być na przykład krzem, będący podłożem przyszłego układu scalonego). Spin-coating może również zostać użyty do nanoszenia powłok interferencyjnych na elementy układów optycznych. (pl)
- 旋转涂覆是一种高速成膜方法，可以得到均匀的薄膜，均匀性广泛应用于半导体材料及化工材料等薄膜制备。它利用旋转产生的离心力，将溶胶、溶液或悬浊液等均匀平铺到衬底表面。 (zh)
- Spin coating is a procedure used to deposit uniform thin films onto flat substrates. Usually a small amount of coating material is applied on the center of the substrate, which is either spinning at low speed or not spinning at all. The substrate is then rotated at speed up to 10,000 rpm to spread the coating material by centrifugal force. A machine used for spin coating is called a spin coater, or simply spinner. (en)
|
| foaf:depiction
| |
| dct:subject
| |
| Wikipage page ID
| |
| Wikipage revision ID
| |
| Link from a Wikipage to another Wikipage
| |
| Link from a Wikipage to an external page
| |
| sameAs
| |
| dbp:wikiPageUsesTemplate
| |
| thumbnail
| |
| has abstract
| - Die Rotationsbeschichtung (engl. spin coating, auch spin-on) ist in der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik ein Verfahren zum Auftragen dünner und gleichmäßiger Schichten bzw. Filme auf einem Substrat. Zum Aufschleudern eignen sich alle in Lösung vorliegenden Materialien, wie z. B. der bei der Fotolithografie verwendete Fotolack (engl.: resist). (de)
- L'enduction centrifuge ou enduction par centrifugation ou dépôt à la tournette (plus connue sous son nom anglais de spin coating) est une technique de formation d'une couche mince et uniforme, par dépôt d’une solution de la substance du film, sur la surface plane d'un substrat qui tourne à vitesse élevée. L'enduction centrifuge est utilisée principalement en microélectronique. La machine utilisée pour cette opération est appelée spin coater ou spinner en anglais. (fr)
- Spin coating is a procedure used to deposit uniform thin films onto flat substrates. Usually a small amount of coating material is applied on the center of the substrate, which is either spinning at low speed or not spinning at all. The substrate is then rotated at speed up to 10,000 rpm to spread the coating material by centrifugal force. A machine used for spin coating is called a spin coater, or simply spinner. Rotation is continued while the fluid spins off the edges of the substrate, until the desired thickness of the film is achieved. The applied solvent is usually volatile, and simultaneously evaporates. The higher the angular speed of spinning, the thinner the film. The thickness of the film also depends on the viscosity and concentration of the solution, and the solvent. Pioneering theoretical analysis of spin coating was undertaken by Emslie et al., and has been extended by many subsequent authors (including Wilson et al., who studied the rate of spreading in spin coating; and Danglad-Flores et al., who found a universal description to predict the deposited film thickness). Spin coating is widely used in microfabrication of functional oxide layers on glass or single crystal substrates using sol-gel precursors, where it can be used to create uniform thin films with nanoscale thicknesses. It is used intensively in photolithography, to deposit layers of photoresist about 1 micrometre thick. Photoresist is typically spun at 20 to 80 revolutions per second for 30 to 60 seconds. It is also widely used for the fabrication of planar photonic structures made of polymers. One advantage to spin coating thin films is the uniformity of the film thickness. Owing to self-leveling, thicknesses do not vary more than 1%. However, spin coating thicker films of polymers and photoresists can result in relatively large edge beads whose planarization has physical limits. (en)
- スピンコートとは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄膜を構成する装置である。日本でも伝統的な陶磁器の製造工程で回転するろくろ上で釉薬を塗布する方法が伝えられている。 装置の名称はスピンコーター、或いは単純にスピナーとも呼ばれる。 回転速度が速いほど、生成される薄膜は薄くなる。中心と周辺で膜厚を均質にする必要がある。 スピンコートは半導体製造工程に於いて広範囲に使用されている。また、DVD、Blu-ray Discなど一部のディスク媒体においても、記録面に有機色素の記録層や保護膜生成のために使われることが多い。高品質の薄膜を能率よく生成する手段としてこれに勝る手段は無い。厚さ10ナノメートル以下も可能である。フォトリソグラフィー工程で使用されるフォトレジストの厚みは約1μmである。 (ja)
- Een spincoating is een oppervlaktebehandelingsproces om een dunne egale deklaag (coating of thin film) op een substraat (ondergrond) aan te brengen. (nl)
- Il rivestimento per rotazione (in inglese Spin Coating), è una procedura utilizzata per applicare un film sottile e uniforme ad un substrato solido piano. In breve, una quantità in eccesso di una soluzione molto diluita della specie che si vuole depositare (ad esempio, un polimero) viene depositata sul substrato, che è successivamente messo in rapida rotazione tramite un apposito rivestitore rotante (brevemente rotore), al fine di spargere il fluido sul substrato per effetto della forza centrifuga. I solventi utilizzati sono di solito molto volatili (clorobenzene, ecc.), dunque il film si assottiglia durante il processo anche per effetto dell'evaporazione del solvente. La rotazione viene fermata non appena si raggiunge lo spessore desiderato, che può andare al di sotto dei 10 nm. (it)
- Spin coater, także spin-coater lub powlekacz obrotowy – jest to urządzenie służące do powlekania płaskich powierzchni cienką, równomierną warstwą lakieru, farby, emulsji światłoczułych, substancji fotorezystywnych, itp. Znajduje zastosowanie w elektronice, mikromechanice i mechatronice w pierwszym etapie fotolitografii, jakim jest naniesienie warstwy substancji światłoczułej (fotorezystywnej) na powierzchnię, która ma być później poddana trawieniu (w elektronice może to być na przykład krzem, będący podłożem przyszłego układu scalonego). Spin-coating może również zostać użyty do nanoszenia powłok interferencyjnych na elementy układów optycznych. (pl)
- 旋转涂覆是一种高速成膜方法，可以得到均匀的薄膜，均匀性广泛应用于半导体材料及化工材料等薄膜制备。它利用旋转产生的离心力，将溶胶、溶液或悬浊液等均匀平铺到衬底表面。 (zh)
|
| gold:hypernym
| |
| prov:wasDerivedFrom
| |
| page length (characters) of wiki page
| |
| foaf:isPrimaryTopicOf
| |
| is Link from a Wikipage to another Wikipage
of | |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)
