About: Photoresist     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : yago:Matter100020827, within Data Space : dbpedia.org associated with source document(s)
QRcode icon
http://dbpedia.org/describe/?url=http%3A%2F%2Fdbpedia.org%2Fresource%2FPhotoresist

A photoresist (also known simply as a resist) is a light-sensitive material used in several processes, such as photolithography and photoengraving, to form a patterned coating on a surface. This process is crucial in the electronic industry. A BARC coating (Bottom Anti-Reflectant Coating) may be applied before the photoresist is applied, to avoid reflections from occurring under the photoresist and to improve the photoresist's performance at smaller semiconductor nodes.

AttributesValues
rdf:type
rdfs:label
  • Fotolack
  • Photoresist
  • Résine photosensible
  • Fotoresis
  • フォトレジスト
  • Fotoresist
  • 포토레지스트
  • Fotorezyst
  • Fotoresist
  • Фоторезист
  • Fotoresist
  • Фоторезист
  • 光刻胶
rdfs:comment
  • Fotolacke (englisch photoresist) werden bei der fotolithografischen Strukturierung verwendet, insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich sowie bei der Leiterplattenherstellung. Die wichtigsten Ausgangsstoffe für Fotolacke sind Polymere (z. B. Polymethylmethacrylat, Novolak, ) bzw. Epoxidharze (z. B. SU-8), Lösungsmittel wie Cyclopentanon oder Gamma-Butyrolacton, sowie eine fotoempfindliche Komponente. Neben flüssigen Fotolacken gibt es noch Fest- bzw. Trockenresists (Fotofolien).
  • La résine photosensible (appelée aussi photorésine et parfois photorésist) est un matériau photosensible utilisé dans de nombreux procédés industriels, comme la photolithographie ou la photogravure afin de former un revêtement protecteur ajouté à la surface d'un substrat.
  • Fotoresis adalah bahan yang bereaksi jika terkena cahaya. Bahan ini jika dikenai cahaya akan larut (fotoresis positif) atau akan menjadi tidak larut atau mengeras (fotoresis negatif). Fotoresis digunakan dalam proses fotolitografi dan merupakan bagian dari proses di pembuatan . Beberapa jenis fotoresis yang ada pada saat ini peka terhadap sinar ultraviolet, laser, pancaran elektron, ion, dan sinar-X. Jika Anda melihat halaman yang menggunakan templat {{stub}} ini, mohon gantikan dengan templat rintisan yang lebih spesifik.
  • フォトレジスト(英語:photoresist)とは、フォトリソグラフィにおいて使用される、光や電子線等によって溶解性などの物性が変化する組成物である。物質の表面に塗布され、後に続くエッチングなどの処理から物質表面を保護することから、「レジスト」 (resist) の名がある。しかしながら、現在では、感光性を有し、画像様露光・現像によりパターニングを行って表面に画像層を形成することができる物質であればフォトレジストと呼ばれ、必ずしも保護の働きがあるとは限らない。
  • Il fotoresist è usato in elettronica e nel campo delle nanotecnologie per la produzione di microchip e sistemi MEMS/MOEMS. È oltretutto anche utilizzato per predisporre le basette ramate alla fotoincisione, molto usata per la produzione di circuiti stampati.
  • 포토레지스트(영어: photoresist)는 표면에 패턴화된 코팅을 형성하기 위해 (노광공정), 등 여러 공정에 사용되는 광반응 물질로 감광성이 있는 수지다. 이 공정은 집적 회로 제조 등 에 필수적이다. 이 공정은 광반응 유기물질로 기질을 코팅함으로써 시작한다. 그 뒤 패턴화된 마스크는 빛을 차단하기 위해 표면에 적용됨으로써 이 물질에서 마스킹되지 않는 부분만이 빛에 노출된다. 그 뒤 표면에 솔벤트가 적용된다.
  • Een fotoresist of fotolak is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert: * Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden worden door de ontwikkelvloeistof weggespoeld. * Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.
  • Fotorezyst – rodzaj emulsji światłoczułej stosowany głównie w fotolitografii oraz fotograwerowaniu do wytworzenia odpowiedniego wzoru na podłożu.
  • Фоторезист (от фото и англ. resist) — полимерный светочувствительный материал. Наносится на обрабатываемый материал в процессе фотолитографии или фотогравировки с целью получить соответствующее фотошаблону расположение окон для доступа травящих или иных веществ к поверхности обрабатываемого материала.
  • Fotoresist är ett ljuskänsligt material som kan användas i flera industriella processer, såsom fotolitografi och , för att skapa en mönstrad beläggning på en yta.
  • 光刻胶(英語:photoresist),亦稱為光阻或光阻劑,是指通过紫外光、深紫外光、电子束、、X射线等光照或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中的关键材料,主要应用于積體电路和半导体分立器件的细微图形加工。
  • Фоторези́ст (від фото і англ. resist) — полімерний світлочутливий матеріал, який змінює свою розчинність при освітленні. Фоторезисти використовуються у фотолітографії, наприклад, при виготовленні друкованих плат чи інтегральних схем.
  • A photoresist (also known simply as a resist) is a light-sensitive material used in several processes, such as photolithography and photoengraving, to form a patterned coating on a surface. This process is crucial in the electronic industry. A BARC coating (Bottom Anti-Reflectant Coating) may be applied before the photoresist is applied, to avoid reflections from occurring under the photoresist and to improve the photoresist's performance at smaller semiconductor nodes.
differentFrom
foaf:depiction
  • External Image
foaf:isPrimaryTopicOf
thumbnail
dct:subject
Wikipage page ID
Wikipage revision ID
Link from a Wikipage to another Wikipage
Link from a Wikipage to an external page
sameAs
Faceted Search & Find service v1.17_git51 as of Sep 16 2020


Alternative Linked Data Documents: PivotViewer | iSPARQL | ODE     Content Formats:       RDF       ODATA       Microdata      About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 08.03.3319 as of Dec 29 2020, on Linux (x86_64-centos_6-linux-glibc2.12), Single-Server Edition (61 GB total memory)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2021 OpenLink Software