Cathodic arc deposition or Arc-PVD is a physical vapor deposition technique in which an electric arc is used to vaporize material from a cathode target. The vaporized material then condenses on a substrate, forming a thin film. The technique can be used to deposit metallic, ceramic, and composite films.
| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| rdfs:label
| - Deposició d'arc catòdic (ca)
- Lichtbogenverdampfen (de)
- Deposición mediante arco catódico (es)
- Cathodic arc deposition (en)
- 음극 아크 퇴적물 (ko)
- Вакуумно-дуговое нанесение покрытий (ru)
|
| rdfs:comment
| - Cathodic arc deposition or Arc-PVD is a physical vapor deposition technique in which an electric arc is used to vaporize material from a cathode target. The vaporized material then condenses on a substrate, forming a thin film. The technique can be used to deposit metallic, ceramic, and composite films. (en)
- La depósito mediante arco catódico o Arc-PVD es una técnica de en la cual se utiliza un arco eléctrico para material de un cátodo. El material vaporizado luego se condensa en un sustrato, formando una película delgada. La técnica se puede utilizar para depositar films metálicos, cerámicos, y compuestos. (es)
- 음극 아크 퇴적물 또는 PVD 아크는 전기 아크가 음극 타겟으로부터 재료를 기화하기 위해 사용되는 기술이다. 기화된 재료는 박막을 형성하는 기판 위에 응축된다. 기법은 금속, 세라믹, 합성 필름을 부착하는데 사용될 수 있다. (ko)
- Lichtbogenverdampfen oder Arc-PVD (auch arc evaporation, von englisch arc ‚Bogen‘) ist ein Beschichtungsverfahren aus der Gruppe der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD), genauer gesagt ein Verdampfungsverfahren. (de)
- Вакуумно-дуговое нанесение покрытий (катодно-дуговое осаждение) — это физический метод нанесения покрытий (тонких плёнок) в вакууме, путём конденсации на подложку (изделие, деталь) материала из плазменных потоков, генерируемых на катоде-мишени в катодном пятне вакуумной дуги сильноточного низковольтного разряда, развивающегося исключительно в парах материала электрода. Метод используется для нанесения металлических, керамических и композитных плёнок на различные изделия. (ru)
|
| foaf:depiction
| |
| dcterms:subject
| |
| Wikipage page ID
| |
| Wikipage revision ID
| |
| Link from a Wikipage to another Wikipage
| |
| Link from a Wikipage to an external page
| |
| sameAs
| |
| dbp:wikiPageUsesTemplate
| |
| thumbnail
| |
| has abstract
| - Cathodic arc deposition or Arc-PVD is a physical vapor deposition technique in which an electric arc is used to vaporize material from a cathode target. The vaporized material then condenses on a substrate, forming a thin film. The technique can be used to deposit metallic, ceramic, and composite films. (en)
- Lichtbogenverdampfen oder Arc-PVD (auch arc evaporation, von englisch arc ‚Bogen‘) ist ein Beschichtungsverfahren aus der Gruppe der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD), genauer gesagt ein Verdampfungsverfahren. Bei diesem Verfahren brennt zwischen der Kammer und dem auf negativem Potenzial liegenden Target ein Lichtbogen, der das später z. B. auf ein Werkstück (dem Substrat) aufzubringende Targetmaterial schmilzt und verdampft. Das Target wirkt als Kathode, die Kammerwand der Vakuumkammer oder eine definierte Elektrode als Anode. Dabei wird ein großer Teil (bis zu 90 %) des verdampften Materials ionisiert. Der Materialdampf (Targetmaterial) breitet sich ähnlich wie beim thermischen Verdampfen radial vom Target aus. Da an das Substrat zusätzlich ein negatives Potenzial gelegt wird, wird der ionisierte Materialdampf zusätzlich zum Substrat hin beschleunigt. An der Substratoberfläche kondensiert der Materialdampf. Durch die hohen Ionisationsanteile kann durch entsprechende Spannungen am Substrat und Target eine große kinetische Energie in den Metalldampf eingebracht werden, so dass am Substrat ein mehr oder weniger starker Sputter-Effekt erreicht werden kann. Dies wird unter anderem ausgenutzt, um die Eigenschaften (Schichthaftung, Dichte, Zusammensetzung usw.) der abgeschiedenen Schicht zu beeinflussen. (de)
- La depósito mediante arco catódico o Arc-PVD es una técnica de en la cual se utiliza un arco eléctrico para material de un cátodo. El material vaporizado luego se condensa en un sustrato, formando una película delgada. La técnica se puede utilizar para depositar films metálicos, cerámicos, y compuestos. (es)
- 음극 아크 퇴적물 또는 PVD 아크는 전기 아크가 음극 타겟으로부터 재료를 기화하기 위해 사용되는 기술이다. 기화된 재료는 박막을 형성하는 기판 위에 응축된다. 기법은 금속, 세라믹, 합성 필름을 부착하는데 사용될 수 있다. (ko)
- Вакуумно-дуговое нанесение покрытий (катодно-дуговое осаждение) — это физический метод нанесения покрытий (тонких плёнок) в вакууме, путём конденсации на подложку (изделие, деталь) материала из плазменных потоков, генерируемых на катоде-мишени в катодном пятне вакуумной дуги сильноточного низковольтного разряда, развивающегося исключительно в парах материала электрода. Метод используется для нанесения металлических, керамических и композитных плёнок на различные изделия. Метод также известен под названиями: катодно-дуговое осаждение (англ. Arc-PVD), метод КИБ — катодно-ионной бомбардировки или, по-другому, метод конденсации вещества из плазменной фазы в вакууме с ионной бомбардировкой поверхности (последнее — оригинальное авторское название создателей метода). Также известны названия «ионно-плазменное напыление», «конденсация с ионной бомбардировкой» (ru)
|
| gold:hypernym
| |
| prov:wasDerivedFrom
| |
| page length (characters) of wiki page
| |
| foaf:isPrimaryTopicOf
| |
| is Link from a Wikipage to another Wikipage
of | |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)
