HSMG (High Strength Metallurgical Graphene) is polycrystalline graphene, grown from a liquid phase. This process, in comparison to other methods based on using solid substrates, allows to manufacture defect-free graphene structures. HSMG is formed on a perfectly flat surface - liquid metal. While growing graphene on solid substrates is difficult due to surface irregularities and defects. Growing graphene on a liquid metal matrix enables the rotation of graphene grains, resulting in forming a continuous graphene sheet. Because of that, the grain disorientation angle is close to zero. Large-area graphene sheets formed with this method have high mechanical durability, close to graphene's theoretical values. This production method has been developed and patented by a team of scientists from th
Attributes | Values |
---|
rdfs:label
| |
rdfs:comment
| - HSMG (High Strength Metallurgical Graphene) is polycrystalline graphene, grown from a liquid phase. This process, in comparison to other methods based on using solid substrates, allows to manufacture defect-free graphene structures. HSMG is formed on a perfectly flat surface - liquid metal. While growing graphene on solid substrates is difficult due to surface irregularities and defects. Growing graphene on a liquid metal matrix enables the rotation of graphene grains, resulting in forming a continuous graphene sheet. Because of that, the grain disorientation angle is close to zero. Large-area graphene sheets formed with this method have high mechanical durability, close to graphene's theoretical values. This production method has been developed and patented by a team of scientists from th (en)
- HSMG (ang. High Strength Metallurgical Graphene) – grafen polikrystaliczny, wytwarzany na podłożu metalicznej fazy ciekłej. Ważną cechą tego procesu, w stosunku do innych metod wytwarzania na stałych substratach, jest uzyskanie nisko zdefektowanych struktur. HSMG jest formowany na idealnie gładkiej powierzchni cieczy . Podczas formowania grafenu z fazy gazowej na podłożach stałych, tworzenie niezdefektowanej warstwy grafenu utrudniają nierówności i defekty powierzchniowe podłoża. Formowanie ciągłych mono warstw grafenu na metalicznej cieczy ma również tę zaletę, że pozwala na samoorganizację powstających ziaren grafenu, wynikającą z możliwości obrotu płatków grafenowych przed utworzeniem warstwy ciągłej. Dzięki temu kąt dezorientacji granic ziaren jest równy lub bliski zero. Tak uformowany (pl)
|
dcterms:subject
| |
Wikipage page ID
| |
Wikipage revision ID
| |
Link from a Wikipage to another Wikipage
| |
sameAs
| |
dbp:wikiPageUsesTemplate
| |
has abstract
| - HSMG (High Strength Metallurgical Graphene) is polycrystalline graphene, grown from a liquid phase. This process, in comparison to other methods based on using solid substrates, allows to manufacture defect-free graphene structures. HSMG is formed on a perfectly flat surface - liquid metal. While growing graphene on solid substrates is difficult due to surface irregularities and defects. Growing graphene on a liquid metal matrix enables the rotation of graphene grains, resulting in forming a continuous graphene sheet. Because of that, the grain disorientation angle is close to zero. Large-area graphene sheets formed with this method have high mechanical durability, close to graphene's theoretical values. This production method has been developed and patented by a team of scientists from the Institute of Materials Science of Lodz University of Technology, under the direction of Piotr Kula. HSMG graphene's commercialisation and applications are being handled by a spin-off institution - Advanced Graphene Products sp. z o.o. (en)
- HSMG (ang. High Strength Metallurgical Graphene) – grafen polikrystaliczny, wytwarzany na podłożu metalicznej fazy ciekłej. Ważną cechą tego procesu, w stosunku do innych metod wytwarzania na stałych substratach, jest uzyskanie nisko zdefektowanych struktur. HSMG jest formowany na idealnie gładkiej powierzchni cieczy . Podczas formowania grafenu z fazy gazowej na podłożach stałych, tworzenie niezdefektowanej warstwy grafenu utrudniają nierówności i defekty powierzchniowe podłoża. Formowanie ciągłych mono warstw grafenu na metalicznej cieczy ma również tę zaletę, że pozwala na samoorganizację powstających ziaren grafenu, wynikającą z możliwości obrotu płatków grafenowych przed utworzeniem warstwy ciągłej. Dzięki temu kąt dezorientacji granic ziaren jest równy lub bliski zero. Tak uformowany, wielkopowierzchniowy grafen, charakteryzuje się wysoką wytrzymałością mechaniczną, zbliżoną do wytrzymałości teoretycznej. Metoda ta została opracowana i opatentowana przez zespół naukowców z Instytutu Inżynierii Materiałowej Politechniki Łódzkiej, pod kierunkiem prof. inż. Piotra Kuli . (pl)
|
prov:wasDerivedFrom
| |
page length (characters) of wiki page
| |
foaf:isPrimaryTopicOf
| |
is Link from a Wikipage to another Wikipage
of | |
is foaf:primaryTopic
of | |