Chemical Bath Deposition, also called Chemical Solution Deposition and CBD, is a method of thin-film deposition (solids forming from a solution or gas), using an aqueous precursor solution. Chemical Bath Deposition typically forms films using heterogeneous nucleation (deposition or adsorption of aqueous ions onto a solid substrate), to form homogeneous thin films of metal chalcogenides (mostly oxides, sulfides, and selenides) and many less common ionic compounds. Chemical Bath Deposition produces films reliably, using a simple process with little infrastructure, at low temperature (<100˚C), and at low cost. Furthermore, Chemical Bath Deposition can be employed for large-area batch processing or continuous deposition. Films produced by CBD are often used in semiconductors, photovoltaic cell
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| - Chemische Badabscheidung (de)
- Chemical bath deposition (en)
- Dépôt chimique en solution (fr)
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| - Chemical Bath Deposition, also called Chemical Solution Deposition and CBD, is a method of thin-film deposition (solids forming from a solution or gas), using an aqueous precursor solution. Chemical Bath Deposition typically forms films using heterogeneous nucleation (deposition or adsorption of aqueous ions onto a solid substrate), to form homogeneous thin films of metal chalcogenides (mostly oxides, sulfides, and selenides) and many less common ionic compounds. Chemical Bath Deposition produces films reliably, using a simple process with little infrastructure, at low temperature (<100˚C), and at low cost. Furthermore, Chemical Bath Deposition can be employed for large-area batch processing or continuous deposition. Films produced by CBD are often used in semiconductors, photovoltaic cell (en)
- Die chemische Badabscheidung (englisch chemical bath deposition, CBD, oder solution growth) ist eine Beschichtungstechnik zur Abscheidung dünner Schichten. Sie basiert auf der kontrollierten Abscheidung schwer löslicher Salze aus einer Lösung. Die Grundlagen für diese Abscheidungstechnik legte im Jahr 1933, als er zum ersten Mal Dünnschichten aus Bleisulfid (PbS) aus einer Lösung herstellte, die Bleiacetat, Thioharnstoff und Natriumhydroxid enthielt. (de)
- Le dépôt chimique en solution, ou dépôt en bain chimique (Chemical Solution Deposition ou Chemical Bath Deposition en anglais), est un procédé de dépôt de couches minces à partir d'un précurseur en solution aqueuse. Il procède généralement par nucléation hétérogène (déposition ou adsorption d'ions solvatés sur un substrat solide) formant une couche mince de chalcogénure métallique (essentiellement des oxydes, sulfures et séléniures) et plus rarement de composés ioniques. Ce procédé permet de déposer des couches minces de manière fiable à l'aide d'équipements simples à température modérée (inférieure à 100 °C) et à faible coût. Il peut de surcroît être employé pour des traitements en masse ou de dépôt continu. Les couches minces déposées par bain chimique sont utilisées de longue date dans (fr)
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| - Die chemische Badabscheidung (englisch chemical bath deposition, CBD, oder solution growth) ist eine Beschichtungstechnik zur Abscheidung dünner Schichten. Sie basiert auf der kontrollierten Abscheidung schwer löslicher Salze aus einer Lösung. Die Grundlagen für diese Abscheidungstechnik legte im Jahr 1933, als er zum ersten Mal Dünnschichten aus Bleisulfid (PbS) aus einer Lösung herstellte, die Bleiacetat, Thioharnstoff und Natriumhydroxid enthielt. Das Verfahren kann ähnlich wie eine chemische Gasphasenabscheidung (engl. chemical vapour deposition, CVD) betrachtet werden, wobei sich das Substrat nicht in einem Gasraum, sondern in einer Lösung befindet.Die Abscheidung der dünnen Schichten erfolgt durch Reaktion der Ionen oder durch Zusammenlagerung der kolloidalen Partikeln. Dies kann beispielsweise durch Zugabe eines Komplexbildners und Erhitzen der Lösung geschehen. Im Labormaßstab kann dies beispielsweise folgendermaßen durchgeführt werden. Das Substrat wird in die Lösung, die sich ein einem Becherglas befindet, eingetaucht und durch einen Heizplatte auf 60 bis 80 °C erwärmt. Für eine bessere Durchmischung der Lösung kann ein Magnetrührer eingesetzt werden. Die Methode zeichnet sich durch niedrige Kosten aus, da keine teure Anlagentechnik notwendig ist, beispielsweise die beim CVD-Verfahren notwendige Vakuumanlage. Im Wesentlichen reicht ein Behälter für die Lösung und das Substrat aus. Zudem gilt sie als skalierbare Technik, das heißt, die Abscheidung kann leicht vom Labormaßstab auf großflächige Stapelverarbeitung oder kontinuierliche Abscheidung übertragen werden.Nachteilig ist bei dieser Methode, dass die Lösung nach jeder Abscheidung als Abfall entsorgt wird. Angewendet wird CBD unter anderem zur Abscheidung von Chalkogeniden, beispielsweise für die Herstellung der Cadmiumsulfid-Schicht (CdS) bei Dünnschichtsolarzellen. (de)
- Chemical Bath Deposition, also called Chemical Solution Deposition and CBD, is a method of thin-film deposition (solids forming from a solution or gas), using an aqueous precursor solution. Chemical Bath Deposition typically forms films using heterogeneous nucleation (deposition or adsorption of aqueous ions onto a solid substrate), to form homogeneous thin films of metal chalcogenides (mostly oxides, sulfides, and selenides) and many less common ionic compounds. Chemical Bath Deposition produces films reliably, using a simple process with little infrastructure, at low temperature (<100˚C), and at low cost. Furthermore, Chemical Bath Deposition can be employed for large-area batch processing or continuous deposition. Films produced by CBD are often used in semiconductors, photovoltaic cells, and supercapacitors, and there is increasing interest in using Chemical Bath Deposition to create nanomaterials. (en)
- Le dépôt chimique en solution, ou dépôt en bain chimique (Chemical Solution Deposition ou Chemical Bath Deposition en anglais), est un procédé de dépôt de couches minces à partir d'un précurseur en solution aqueuse. Il procède généralement par nucléation hétérogène (déposition ou adsorption d'ions solvatés sur un substrat solide) formant une couche mince de chalcogénure métallique (essentiellement des oxydes, sulfures et séléniures) et plus rarement de composés ioniques. Ce procédé permet de déposer des couches minces de manière fiable à l'aide d'équipements simples à température modérée (inférieure à 100 °C) et à faible coût. Il peut de surcroît être employé pour des traitements en masse ou de dépôt continu. Les couches minces déposées par bain chimique sont utilisées de longue date dans l'industrie des semiconducteurs, les cellules photovoltaïques et les supercondensateurs, et sont également étudiées dans le domaine des nanomatériaux. (fr)
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