| dbo:abstract
|
- Una màscara fotogràfica, fotomàscara (o simplement màscara, depenent del context) és una pel·lícula amb àrees transparents i zones opaques, que deixen que la llum passi o no passi en un procés d'insolació fotogràfica. (ca)
- Fotomasken (englisch reticle) sind Projektionsvorlagen, deren Hauptanwendung die fotolithografische Strukturierung bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltungen oder Mikrosystemen ist. Sie bestehen üblicherweise aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid (Lithografie mit Excimer-Laser der Wellenlänge 248 nm bzw. 193 nm) und sind beispielsweise auf einer Seite mit einer dünnen strukturierten Chromschicht versehen. (de)
- A photomask is an opaque plate with holes or transparencies that allow light to shine through in a defined pattern. They are commonly used in photolithography and the production of integrated circuits (ICs or "chips") in particular. Masks are used to produce a pattern on a substrate, normally a thin slice of silicon known as a wafer in the case of chip manufacturing. Several masks are used in turn, each one reproducing a layer of the completed design, and together they are known as a mask set. Previously, photomasks used to be produced manually by using rubylith and mylar. As complexity continued to grow, manual processing of any sort became difficult. This was solved with the introduction of the which automated the process of producing the initial large-scale pattern, and the step-and-repeat cameras that automated the copying of the pattern into a multiple-IC mask. The intermediate masks are known as reticles, and were initially copied to production masks using the same photographic process. The initial stages produced by the generators have since been replaced by electron beam lithography and laser-driven systems. In these systems there may be no reticle, the masks can be generated directly from the original computerized design. Mask materials have also changed over time. Initially, the rubylith was directly used as the mask. As feature size shrank the only way to properly focus the image was to place it in direct contact with the wafer. These contact aligners often lifted some of the photoresist off the wafer and the mask had to be discarded. This helped drive the adoption of reticles, which were used to produce thousands of masks. As the power of the lamps exposing the masks increased, film became subject to distortion due to heat, and was replaced by silver halide on soda glass. This same process led to the use of borosilicate and then quartz to control expansion, and from silver halide to chromium which has better opacity to the ultraviolet light used in the lithography process. (en)
- Un masque photographique (ou simplement masque, selon le contexte) est un gabarit avec des zones transparentes ou évidées et des zones opaques, laissant passer la lumière selon un motif précis. Les masques photographiques sont communément utilisés en photolithographie. (fr)
- フォトマスク（英語：photomask）とは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ」と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。 半導体素子、フラットパネルディスプレイ、プリント基板といった電子部品の製造工程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。露光工程で1枚ごとにフォトレジストと呼ばれる感光性材料にフォトマスクの画像が転写される。露光により現像液への溶解性が変化するフォトレジストの特性に基づき、光の当たった部分が除去される、あるいは残存することにより、次のエッチング工程と呼ばれる被加工対象への溶解、除去処理に対するマスクとなる。エッチング工程での被加工対象の不要部分の除去が終了後、フォトレジストを薬液によって剥離することで工程が終了し、次の層の加工のためにまたフォトレジストが塗布され、同様の処理が繰り返される。 高密度半導体の製造に使われる高精細のフォトマスクのものではレチクルと呼ばれるものがある。 (ja)
- Fotomaska – płyta służąca do naświetlania wzorów w procesie fotolitografii zgodnie ze znajdującymi się na niej obszarami nieprzezroczystymi i przezroczystymi (tzw. oknami).
* Fotomaska chromowa.
* Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary pokryte chromem i blokujące światło, reszta to okna bez chromu przepuszczające światło. Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w fotorezyście. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, które zastąpione zostały przede wszystkim fotomaskami chromowymi, czyli płytami szklanymi lub kwarcowymi pokrytymi chromem. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu, przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe (fotorezysty) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu, naświetlanie wykonuje się za pomocą:
* Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny, co oznacza niższą rozdzielczość.
* Urządzenie do litografii laserowej (Heidelberg Instruments, DWL 66FS)
* Głowica rysująca i stolik wewnątrz komory urządzenia do litografii laserowej.
* Elektronolitografii - urządzenie droższe w zakupie, ale można uzyskać mniejszy wymiar krytyczny (wyższą rozdzielczość). Po naświetleniu wzoru w rezyście wywołuje się go odpowiednim wywoływaczem. W ten sposób otwiera się okna w rezyście, przez które następnie usuwa się chrom. Najpopularniejszą metodą jest mokre trawienie w kwaśnych rozworach. Ostatecznie (po usunięciu już zbędnego rezystu) uzyskuje się płytę z wzorem, którego nieprzezroczyste obszary pokryte są chromem. (pl)
- Fotomáscara é a imagem fotográfica negativa de um molde de circuitos integrados. (pt)
- Фотошабло́н — стеклянная или иная пластина либо полимерная плёнка со сформированным на её поверхности рисунком элементов схем из материала, не пропускающего актиничное излучение. Фотошаблон является одним из основных инструментов при создании заданного рельефного защитного покрытия при проведении фотолитографии в планарной технологии. В зависимости от материала пленочного покрытия различают фотошаблоны на основе:
* фотографической эмульсии (эмульсионные фотошаблоны)
* металлической плёнки (металлические фотошаблоны)
* окиси железа (цветные фотошаблоны) (ru)
- 光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作集成电路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。比如沖洗照片時，利用底片將影像複製至相片上。 (zh)
- Фотошаблон - скляна або інша пластина або полімерна плівка зі сформованим на її поверхні малюнком елементів схем з матеріалу, що не пропускає випромінювання. Фотошаблон є одним з основних інструментів при створенні заданого рельєфного захисного покриття при проведенні фотолітографії в планарної технології. Залежно від матеріалу плівкового покриття розрізняють фотошаблони на основі:
* Фотографічної емульсії (емульсійні фотошаблони)
* Металевої плівки (металеві фотошаблони)
* Окису заліза (кольорові фотошаблони) (uk)
|
| rdfs:comment
|
- Una màscara fotogràfica, fotomàscara (o simplement màscara, depenent del context) és una pel·lícula amb àrees transparents i zones opaques, que deixen que la llum passi o no passi en un procés d'insolació fotogràfica. (ca)
- Fotomasken (englisch reticle) sind Projektionsvorlagen, deren Hauptanwendung die fotolithografische Strukturierung bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltungen oder Mikrosystemen ist. Sie bestehen üblicherweise aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid (Lithografie mit Excimer-Laser der Wellenlänge 248 nm bzw. 193 nm) und sind beispielsweise auf einer Seite mit einer dünnen strukturierten Chromschicht versehen. (de)
- Un masque photographique (ou simplement masque, selon le contexte) est un gabarit avec des zones transparentes ou évidées et des zones opaques, laissant passer la lumière selon un motif précis. Les masques photographiques sont communément utilisés en photolithographie. (fr)
- フォトマスク（英語：photomask）とは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ」と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。 半導体素子、フラットパネルディスプレイ、プリント基板といった電子部品の製造工程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。露光工程で1枚ごとにフォトレジストと呼ばれる感光性材料にフォトマスクの画像が転写される。露光により現像液への溶解性が変化するフォトレジストの特性に基づき、光の当たった部分が除去される、あるいは残存することにより、次のエッチング工程と呼ばれる被加工対象への溶解、除去処理に対するマスクとなる。エッチング工程での被加工対象の不要部分の除去が終了後、フォトレジストを薬液によって剥離することで工程が終了し、次の層の加工のためにまたフォトレジストが塗布され、同様の処理が繰り返される。 高密度半導体の製造に使われる高精細のフォトマスクのものではレチクルと呼ばれるものがある。 (ja)
- Fotomáscara é a imagem fotográfica negativa de um molde de circuitos integrados. (pt)
- Фотошабло́н — стеклянная или иная пластина либо полимерная плёнка со сформированным на её поверхности рисунком элементов схем из материала, не пропускающего актиничное излучение. Фотошаблон является одним из основных инструментов при создании заданного рельефного защитного покрытия при проведении фотолитографии в планарной технологии. В зависимости от материала пленочного покрытия различают фотошаблоны на основе:
* фотографической эмульсии (эмульсионные фотошаблоны)
* металлической плёнки (металлические фотошаблоны)
* окиси железа (цветные фотошаблоны) (ru)
- 光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作集成电路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。比如沖洗照片時，利用底片將影像複製至相片上。 (zh)
- Фотошаблон - скляна або інша пластина або полімерна плівка зі сформованим на її поверхні малюнком елементів схем з матеріалу, що не пропускає випромінювання. Фотошаблон є одним з основних інструментів при створенні заданого рельєфного захисного покриття при проведенні фотолітографії в планарної технології. Залежно від матеріалу плівкового покриття розрізняють фотошаблони на основі:
* Фотографічної емульсії (емульсійні фотошаблони)
* Металевої плівки (металеві фотошаблони)
* Окису заліза (кольорові фотошаблони) (uk)
- A photomask is an opaque plate with holes or transparencies that allow light to shine through in a defined pattern. They are commonly used in photolithography and the production of integrated circuits (ICs or "chips") in particular. Masks are used to produce a pattern on a substrate, normally a thin slice of silicon known as a wafer in the case of chip manufacturing. Several masks are used in turn, each one reproducing a layer of the completed design, and together they are known as a mask set. (en)
- Fotomaska – płyta służąca do naświetlania wzorów w procesie fotolitografii zgodnie ze znajdującymi się na niej obszarami nieprzezroczystymi i przezroczystymi (tzw. oknami).
* Fotomaska chromowa.
* Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary pokryte chromem i blokujące światło, reszta to okna bez chromu przepuszczające światło.
* Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny, co oznacza niższą rozdzielczość.
* Urządzenie do litografii laserowej (Heidelberg Instruments, DWL 66FS)
* (pl)
|
