The 10 µm process is the level of semiconductor process technology that was reached around 1971 by the leading semiconductor companies such as Intel.

Property Value
dbo:abstract
  • 25بك المحتوى هنا ينقصه الاستشهاد بمصادر. يرجى إيراد مصادر موثوق بها. أي معلومات غير موثقة يمكن التشكيك بها وإزالتها. (مارس 2016) عملية 10 ميكرومتر عملية 10 ميكرومتر (بالإنجليزية: 10 µm process) عملية تشير إلى مستوى عملية تصنيع تقنية أشباه الموصلات التي تم التوصل إليها بحدود العامين 1971 و1972 ميلادي من قبل الشركات الرائدة في مجال أشباه الموصلات، مثل إنتل. (ar)
  • El proceso de 10 µm se refiere a una tecnología de proceso de semiconductores producidos en los años 1971 y 1972 por las principales empresas de semiconductores como Intel. (es)
  • 10 µm (ou encore 10 000 nm) est un processus de fabrication appartenant à la technologie des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, la principale industrie de semi-conducteurs dans les années 1971-1972. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm. (fr)
  • 10 µm (o 10000 nanometri) è un processo produttivo della tecnologia dei semiconduttori con cui vengono prodotti i circuiti integrati a larghissima scala di integrazione (VLSI). Questa tecnologia fu raggiunta da Intel, la principale industria di semiconduttori, negli anni 1971-1972. Il successore di questo processo utilizza una larghezza di canale di 3 µm. (it)
  • The 10 µm process is the level of semiconductor process technology that was reached around 1971 by the leading semiconductor companies such as Intel. (en)
  • 10 µm制程是半导体制造制程的一个水平,大约于1971年左右达成。 这个是由当时的领先半导体公司如英特尔所完成。 (zh)
dbo:wikiPageExternalLink
dbo:wikiPageID
  • 9758579 (xsd:integer)
dbo:wikiPageRevisionID
  • 738330924 (xsd:integer)
dbp:list
  • Semiconductor device fabrication processes
dbp:next
  • 6 (xsd:integer)
dbp:prev
  • -
dct:subject
http://purl.org/linguistics/gold/hypernym
rdf:type
rdfs:comment
  • 25بك المحتوى هنا ينقصه الاستشهاد بمصادر. يرجى إيراد مصادر موثوق بها. أي معلومات غير موثقة يمكن التشكيك بها وإزالتها. (مارس 2016) عملية 10 ميكرومتر عملية 10 ميكرومتر (بالإنجليزية: 10 µm process) عملية تشير إلى مستوى عملية تصنيع تقنية أشباه الموصلات التي تم التوصل إليها بحدود العامين 1971 و1972 ميلادي من قبل الشركات الرائدة في مجال أشباه الموصلات، مثل إنتل. (ar)
  • El proceso de 10 µm se refiere a una tecnología de proceso de semiconductores producidos en los años 1971 y 1972 por las principales empresas de semiconductores como Intel. (es)
  • 10 µm (ou encore 10 000 nm) est un processus de fabrication appartenant à la technologie des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, la principale industrie de semi-conducteurs dans les années 1971-1972. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm. (fr)
  • 10 µm (o 10000 nanometri) è un processo produttivo della tecnologia dei semiconduttori con cui vengono prodotti i circuiti integrati a larghissima scala di integrazione (VLSI). Questa tecnologia fu raggiunta da Intel, la principale industria di semiconduttori, negli anni 1971-1972. Il successore di questo processo utilizza una larghezza di canale di 3 µm. (it)
  • The 10 µm process is the level of semiconductor process technology that was reached around 1971 by the leading semiconductor companies such as Intel. (en)
  • 10 µm制程是半导体制造制程的一个水平,大约于1971年左右达成。 这个是由当时的领先半导体公司如英特尔所完成。 (zh)
rdfs:label
  • عملية 10 ميكرومتر (ar)
  • Proceso de 10 µm (es)
  • 10 µm (it)
  • 10 µm process (en)
  • 10 µm (fr)
  • 10微米制程 (zh)
owl:sameAs
prov:wasDerivedFrom
foaf:isPrimaryTopicOf
is dbo:wikiPageRedirects of
is owl:sameAs of
is foaf:primaryTopic of