Vapour phase decomposition (VPD) is a method used in the semiconductor industry to improve the sensitivity of total-reflection x-ray fluorescence spectroscopy by changing the contaminant from a thin layer (which has an angle-dependent fluorescence intensity in the -domain) to a granular residue. When using granular residue the limits of detection are improved because of a more intense fluorescence signal in angles smaller than the .
Attributes | Values |
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rdf:type
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rdfs:label
| - Gasphasenzersetzung (de)
- Vapour phase decomposition (en)
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rdfs:comment
| - Die Gasphasenzersetzung (englisch vapour phase decomposition, VPD) ist eine Probenpräparationsmethode der Analytischen Chemie zur Konzentrierung von vorrangig metallischen Verunreinigungen auf (Silizium-)Proben. Sie wird unter anderem in der Halbleiterindustrie verwendet, um die Empfindlichkeit der Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse (TXRF) oder anderer analytischer Verfahren zu verbessern.Entwickelt wurde das Verfahren 1984 von Mitarbeitern der Firma Toshiba. (de)
- Vapour phase decomposition (VPD) is a method used in the semiconductor industry to improve the sensitivity of total-reflection x-ray fluorescence spectroscopy by changing the contaminant from a thin layer (which has an angle-dependent fluorescence intensity in the -domain) to a granular residue. When using granular residue the limits of detection are improved because of a more intense fluorescence signal in angles smaller than the . (en)
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dcterms:subject
| |
Wikipage page ID
| |
Wikipage revision ID
| |
Link from a Wikipage to another Wikipage
| |
sameAs
| |
dbp:wikiPageUsesTemplate
| |
has abstract
| - Die Gasphasenzersetzung (englisch vapour phase decomposition, VPD) ist eine Probenpräparationsmethode der Analytischen Chemie zur Konzentrierung von vorrangig metallischen Verunreinigungen auf (Silizium-)Proben. Sie wird unter anderem in der Halbleiterindustrie verwendet, um die Empfindlichkeit der Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse (TXRF) oder anderer analytischer Verfahren zu verbessern.Entwickelt wurde das Verfahren 1984 von Mitarbeitern der Firma Toshiba. (de)
- Vapour phase decomposition (VPD) is a method used in the semiconductor industry to improve the sensitivity of total-reflection x-ray fluorescence spectroscopy by changing the contaminant from a thin layer (which has an angle-dependent fluorescence intensity in the -domain) to a granular residue. When using granular residue the limits of detection are improved because of a more intense fluorescence signal in angles smaller than the . (en)
|
gold:hypernym
| |
prov:wasDerivedFrom
| |
page length (characters) of wiki page
| |
foaf:isPrimaryTopicOf
| |
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of | |
is foaf:primaryTopic
of | |