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A photomask is an opaque plate with holes or transparencies that allow light to shine through in a defined pattern. They are commonly used in photolithography.

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  • Photomask
  • Fotomaske
  • Máscara fotográfica
  • Masque photographique
  • フォトマスク
  • Fotomáscara
  • Фотошаблон
  • 光罩
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  • A photomask is an opaque plate with holes or transparencies that allow light to shine through in a defined pattern. They are commonly used in photolithography.
  • Fotomasken (englisch reticle) sind Projektionsvorlagen, deren Hauptanwendung die fotolithografische Strukturierung bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltungen oder Mikrosystemen ist. Sie bestehen üblicherweise aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid (Lithografie mit Laserlicht der Wellenlänge 248 nm bzw. 193 nm) und sind beispielsweise auf einer Seite mit einer dünnen strukturierten Chromschicht versehen.
  • Un masque photographique (ou simplement masque, selon le contexte) est un gabarit avec des zones transparentes ou évidées et des zones opaques, laissant passer la lumière selon un motif précis. Les masques photographiques sont communément utilisés en photolithographie.
  • フォトマスク(英語:photomask)とは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ」と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。 半導体素子、フラットパネルディスプレイ、プリント基板といった電子部品の製造工程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。露光工程で1枚ごとにフォトレジストと呼ばれる感光性材料にフォトマスクの画像が転写される。露光により現像液への溶解性が変化するフォトレジストの特性に基づき、光の当たった部分が除去される、あるいは残存することにより、次のエッチング工程と呼ばれる被加工対象への溶解、除去処理に対するマスクとなる。エッチング工程での被加工対象の不要部分の除去が終了後、フォトレジストを薬液によって剥離することで工程が終了し、次の層の加工のためにまたフォトレジストが塗布され、同様の処理が繰り返される。 高密度半導体の製造に使われる高精細のフォトマスクのものではレチクルと呼ばれるものがある。
  • Fotomáscara é a imagem fotográfica negativa de um molde de circuitos integrados.
  • 光罩(英语:Reticle, Mask):在製作集成电路的過程中,利用光蝕刻技術,在半導體上形成圖型,為將圖型複製於晶圓上,必須透過光罩作用的原理。比如沖洗照片時,利用底片將影像複製至相片上。
  • Фотошабло́н — стеклянная или иная пластина либо полимерная пленка со сформированным на её поверхности рисунком элементов схем из материала, не пропускающего актиничное излучение. Фотошаблон является одним из основных инструментов при создании заданного рельефного защитного покрытия при проведении фотолитографии в планарной технологии. В зависимости от материала пленочного покрытия различают фотошаблоны на основе: * фотографической эмульсии (эмульсионные фотошаблоны) * металлической пленки (металлические фотошаблоны) * окиси железа (цветные фотошаблоны)
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  • A photomask is an opaque plate with holes or transparencies that allow light to shine through in a defined pattern. They are commonly used in photolithography.
  • Fotomasken (englisch reticle) sind Projektionsvorlagen, deren Hauptanwendung die fotolithografische Strukturierung bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltungen oder Mikrosystemen ist. Sie bestehen üblicherweise aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid (Lithografie mit Laserlicht der Wellenlänge 248 nm bzw. 193 nm) und sind beispielsweise auf einer Seite mit einer dünnen strukturierten Chromschicht versehen.
  • Un masque photographique (ou simplement masque, selon le contexte) est un gabarit avec des zones transparentes ou évidées et des zones opaques, laissant passer la lumière selon un motif précis. Les masques photographiques sont communément utilisés en photolithographie.
  • フォトマスク(英語:photomask)とは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ」と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。 半導体素子、フラットパネルディスプレイ、プリント基板といった電子部品の製造工程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。露光工程で1枚ごとにフォトレジストと呼ばれる感光性材料にフォトマスクの画像が転写される。露光により現像液への溶解性が変化するフォトレジストの特性に基づき、光の当たった部分が除去される、あるいは残存することにより、次のエッチング工程と呼ばれる被加工対象への溶解、除去処理に対するマスクとなる。エッチング工程での被加工対象の不要部分の除去が終了後、フォトレジストを薬液によって剥離することで工程が終了し、次の層の加工のためにまたフォトレジストが塗布され、同様の処理が繰り返される。 高密度半導体の製造に使われる高精細のフォトマスクのものではレチクルと呼ばれるものがある。
  • Fotomáscara é a imagem fotográfica negativa de um molde de circuitos integrados.
  • 光罩(英语:Reticle, Mask):在製作集成电路的過程中,利用光蝕刻技術,在半導體上形成圖型,為將圖型複製於晶圓上,必須透過光罩作用的原理。比如沖洗照片時,利用底片將影像複製至相片上。
  • Фотошабло́н — стеклянная или иная пластина либо полимерная пленка со сформированным на её поверхности рисунком элементов схем из материала, не пропускающего актиничное излучение. Фотошаблон является одним из основных инструментов при создании заданного рельефного защитного покрытия при проведении фотолитографии в планарной технологии. В зависимости от материала пленочного покрытия различают фотошаблоны на основе: * фотографической эмульсии (эмульсионные фотошаблоны) * металлической пленки (металлические фотошаблоны) * окиси железа (цветные фотошаблоны)
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